Aktualności

2018-06-14

Tektura falista – najnowsze technologie

W dniach 14 – 15 czerwca 2018 r. w Trzebawiu koło Poznania, Polski Drukarz Sp. z o.o. we współpracy z firmami EFI, Esko, KBA, SCORPIO, Siegwerk oraz X-Rite, zorganizował kolejną edycję konferencji „Tektura falista – najnowsze technologie”. Patronat merytoryczny nad konferencją objął Instytut Papiernictwa i Poligrafii Politechniki Łódzkiej, a w wydarzeniu ze strony Stowarzyszenia uczestniczyła A. Werner.

Podczas konferencji eksperci branży tektury falistej oraz poligrafii prezentowali swoje rozwiązania w zakresie produkcji tektury falistej oraz technologii jej zadruku. Uwagę zwracały również tematy dotyczące urządzeń i rozwiązań do produkcji opakowań z tektury oraz automatyzacja procesów produkcyjnych. Konferencji towarzyszyła wystawa produktów oferowanych przez firmy współorganizujące wydarzenie.


Zobacz pozostałe wpisy